目前，真空磁控溅射镀膜技术是一种应用十分广泛的薄膜沉积技术,溅射技术上的不断发展和对新功能薄膜的探索研究,使磁控溅射镀膜技术的应用延伸到许多生产和科研领域。
在微电子领域，磁控溅射镀膜技术作为一种非热式镀膜技术,主要应用在化学气相沉积或金属有机化学气相沉积生长困难及不适用的材料薄膜沉积,而且可以获得大面积非常均匀的薄膜。
磁控溅射技术在光学薄膜，如增透减反射玻璃、低辐射玻璃和透明导电玻璃等方面也得到应用。在透明导电玻璃在玻璃基片,溅射制备SiO2薄膜和掺杂ZnO或InSn氧化物(ITO)薄膜，生产的ITO导电玻璃，在可见光范围内平均透过率在90%以上。
在现代机械加工工业中,利用磁控溅射技术制作表面功能膜、超硬膜,自润滑薄膜,能有效的提高表面硬度、复合韧性、耐磨损性和抗高温以及化学稳定性,从而大幅度地提高涂层产品的使用寿命。另外，磁控溅射镀膜技术还在高温超导薄膜、铁电体薄膜、巨磁阻薄膜、薄膜发光材料、太阳能电池、记忆合金薄膜研究方面发挥重要作用。
磁控溅射镀膜技术由于其显著的优点成为工业镀膜主要技术之一，具有以下优点：
（1）操作易控。镀膜过程，只要保持工作压强、电功率等溅射条件相对稳定，就能获得比较稳定的沉积速率。
（2）沉积速率高。在沉积大部分的金属薄膜，尤其是沉积高熔点的金属和氧化物薄膜时，如溅射钨、铝薄膜和反应溅射TiO2、ZrO2薄膜，具有很高的沉积率。
（3）基板低温性。相对二极溅射或者热蒸发，磁控溅射对基板加热少了，这一点对实现织物的上溅射相当有利。
（4）膜的牢固性好。溅射薄膜与基板有着极好的附着力，机械强度也得到了改善。
（5）成膜致密、均匀。溅射的薄膜聚集密度普遍提高了。从显微照片看，溅射的薄膜表面微观形貌比较精致细密，而且非常均匀。
（6）溅射的薄膜均具有优异的性能。如溅射的金属膜通常能获得良好的光学性能、电学性能及某些特殊性能。
（7）易于组织大批量生产。磁控源可以根据要求进行扩大，因此大面积镀膜是容易实现的。再加上溅射可连续工作，镀膜过程容易自动控制，因此工业上流水线作业完全成为可能。
（8）工艺环保。传统的湿法电镀会产生废液、废渣、废气，对环境造成严重的污染。不产生环境污染、生产效率高的磁控溅射镀膜法则可较好解决这一难题。
深圳市三鑫精美特玻璃有限公司（www.jmtglass.com）生产的AR玻璃、ITO玻璃、钻面防刮玻璃等均是采用立式真空磁控溅射镀膜技术生产，获得的产品，合格率高，膜的牢固性好，并且膜致密，均匀，所生产的电子电器配套玻璃产品已经广泛应用于军用、医用显示器、触摸屏、广告机、太阳能等领域。
随着磁控溅射技术与计算机的结合，利用计算机来控制精确镀膜过程，模拟镀膜时的磁场、温度场、以及气流分布，磁控溅射镀膜技术将会越来越成熟，生产成本也会逐步降低，必将成为市场上主流的镀膜技术。
